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UV晶圓擦除設(shè)備：半導(dǎo)體制造的關(guān)鍵一步

日期：2024-09-26 10:34 瀏覽：210

UV晶圓擦除設(shè)備在半導(dǎo)體制造中扮演著至關(guān)重要的角色，尤其在手機屏幕驅(qū)動、LCD驅(qū)動芯片光擦除以及光刻機清洗消解等領(lǐng)域。本文將深入探討UV晶圓擦除技術(shù)的原理，闡述其在晶圓光擦中的關(guān)鍵作用。

UV晶圓擦除技術(shù)是一種基于紫外光的表面處理技術(shù)。其原理在于使用高強度的UV光照射晶圓表面，使得污染物分解或揮發(fā)，達到清潔表面的目的。在手機屏幕驅(qū)動、LCD驅(qū)動芯片等高精密制造中，晶圓表面的潔凈度對產(chǎn)品的性能至關(guān)重要，UV晶圓擦除技術(shù)在此背景下顯得尤為重要。

紫外光擦除設(shè)備.jpg


紫外線擦除器.jpg


當(dāng)前中美關(guān)系緊張，尤其在科技領(lǐng)域存在技術(shù)封鎖。美國對中國的一系列封鎖措施直接影響了中國的科技產(chǎn)業(yè)。新聞報道顯示美國政府對一些中國科技公司實施了技術(shù)出口禁令，這對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提出了巨大的挑戰(zhàn)。與此同時，中國政府通過加強反壟斷政策，推動產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整，提高市場競爭效率，努力應(yīng)對外部壓力。

在當(dāng)前國際環(huán)境下，中國強調(diào)國貨自強，特別是在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。通過自主研發(fā)、自主創(chuàng)新，減少對外部技術(shù)的依賴，是中國實現(xiàn)科技自主可控的關(guān)鍵路徑。國貨自強不僅是科技領(lǐng)域的需要，更是國家整體實力提升的必經(jīng)之路。中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正通過不斷努力，逐漸在全球半導(dǎo)體市場中占據(jù)更重要的地位。

朗普科技于2015年研發(fā)出首臺UV晶圓擦除設(shè)備，如今已經(jīng)發(fā)展到第四代機型。公司以自主研發(fā)為主導(dǎo)，擁有多項專利技術(shù)，貨期短、價格低，光照強度達到或超過80mw/cm2。此外，與中電二所、科研院校等單位的合作開發(fā)為公司帶來了技術(shù)創(chuàng)新的源泉。

照射平面的光學(xué)模擬

景圓片光擦除.jpg

展望未來，UV晶圓擦除技術(shù)在手機屏幕、LCD驅(qū)動芯片等領(lǐng)域的應(yīng)用將繼續(xù)擴大。隨著國際環(huán)境的變化，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)需要更多的自主創(chuàng)新，推動整個產(chǎn)業(yè)鏈的升級。朗普科技的UV晶圓擦除也為中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展注入了新的活力。